1 實(shí)驗(yàn)部分

實(shí)驗(yàn)所用其它設(shè)備包括600 W超聲清洗機(jī)（浙 江博凡動力）、高溫鼓風(fēng)干燥箱（上海一恒儀器）、XMET 7500手持式X射線熒光儀（英國牛津儀器）。將石墨樣片進(jìn)行預(yù)處理，包括打磨、超聲清洗和 烘烤三部分。對樣片表面進(jìn)行打磨后，置于去離子 水中進(jìn)行超聲清洗15 min，烘烤數(shù)小時(shí)得到初始樣 片。通過將一定量鎘廢液滴加于樣片表面和將樣片 置于鎘廢液中浸泡一定時(shí)長兩種方式，經(jīng)反復(fù)高溫 烘烤得到兩種不同的模擬放射性沾污實(shí)驗(yàn)樣片。

2 結(jié)果與討論

干法去污為熱等離子體直接對石墨樣片進(jìn)行去 污處理，表面污染微?；蚴w吸收能量后產(chǎn)生 熱膨脹，其中微粒主要通過熱擴(kuò)散、分解、氣化等方 式脫離石墨表面，同時(shí)石墨基材由于熱膨脹作用會 導(dǎo)致表層的剝離 。輸出電流為50 A時(shí)，石墨樣 片表面的剝離程度最大，最大剝離厚度達(dá)到57 μm。 輸出電流60 A時(shí)具有最佳的去污率，其剝離厚度小 于50 A，其原因在于表面孔隙和裂紋會加速熱等離 子體的剝離作用，而60 A處理樣片的表面孔隙和裂 紋較少。因此，可在較小的剝離厚度下便可得到較 大的去污率。

3 結(jié)論

干法去污的去污率和剝離厚度都隨著輸出電 流和去污時(shí)間的增大而增大，其中浸泡式樣片由于 具有更高的沾污程度，其去污率小于同等條件下的 滴加式樣片，且剝離厚度更大。濕法去污在干法去污的基礎(chǔ)上，增加了水膜 劇烈汽化產(chǎn)生的推離作用，在同等條件下大大提高 了熱等離子體的去污能力。

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